分散ウルトラアペックスミルアドバンス / ADV特許出願中

「高粘性スラリーでもナノ分散をしたい」「粒子への低ダメージ分散をしたい」

概要

このような特殊なニーズに対応できるのがウルトラアペックスミルアドバンスです。
従来のビーズミルでは困難であった高粘性スラリーでも ナノ〜ミクロンオーダーの分散ができます。
また、 粒子に対して低ダメージ分散ができ、粒子本来の特性を損ないません。

特徴

1. 高粘性スラリーでも「ナノ分散」ができる!
従来機で対応できない高粘性スラリーでも、ナノ分散・微粉砕ができます。
例えば、高粘性の樹脂原料中にナノ粒子を分散できます。
2. 粒子への低ダメージ分散ができる!
低ダメージの粒子分散ができるため、粒子本来の特性を損なわない製品が得られます。
その為、粉砕微粒子が問題になる原料処理に適しています。
3. コンタミ低減ができる!
ビーズ磨耗が少なく、コンタミ量を低減できます。
4. メンテナンスが容易にできる!
ビーズ交換や機械の分解・洗浄が容易な構造に設計しました。
分散・粉砕イメージ

構造

ビーズセパレータ:セントリーセパレータ
粘度[mPa•s] 500 700 1,000 2,000
ウルトラアペックスミル
アドバンス
従来機[当社] × × ×

従来機の4倍の粘度でも運転が可能です。

従来機・ウルトラアベックスミルアドバンス

運転条件

使用可能ビーズ径
Φ0.015mm〜Φ0.5mm
ビーズセパレータ周速
6m/s〜18m/s

用途例および最終製品例

高粘性対応

光学材料(樹脂原料中 ジルコニア・シリカのナノ分散)、導電性塗料、化粧品(オイル中 酸化チタン・酸化亜鉛の分散)など

低ダメージ分散対応

電子材料(チタン酸ベリウム、中空シリカ)、電極材料(ナノ銀、ニッケルなど)、熱線遮断材(ITOなど)、光触媒(酸化チタン)、
液晶顔料など

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